F50系列：
标签: 自动厚度测试，薄膜测试
发布时间: 2019-04-17 15:05:54发布
自动化薄膜测绘 Filmetrics F50 系列的产品能以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度。很方便就可以测试光刻胶、硅晶圆薄膜的厚度。
F50系列:
自动化薄膜测绘
Filmetrics F50 系列的产品能以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度。一个电动R-Theta 平台可接受标准和客制化夹盘，样品直径可达450毫米。(耐用的平台在我们的量产系统能够执行数百万次的量测!)
測绘圖案可以是极座標、矩形或线性的，您也可以创造自己的测绘方法，并且不受测量点数量的限制。內建数十种预定义的测绘圖案。
不同的 F50 仪器是根据波长范围来加以区分的。 标准的 F50是最受欢迎的产品。 一般较短的波长 (例如， F50-UV) 可用于测量较薄的薄膜，而较长的波长则可以用来测量更厚、
更不平整以及更不透明的薄膜。
产品链接：http://www.ilabilab.com/goods.php?id=7145
邮箱：ilabmarket@ilabilab.com
手机/WeChat：18917564620 （吕经理）
应用实例：
1.光刻胶
成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战， 而 Filmetrics 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。
测量SU-8 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂 SU-8 的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太精确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行精确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。
Filmetrics 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 所有的 Filmetrics 型号都能通过精确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 独家的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。
测量范例
测量光刻胶涂层厚度的能力对开发和制造各种半导体器件如MEMS至关重要。Filmetrics提供测量SU-8和其它光刻胶厚度的广泛的解决方案。此案例中，我们演示如何用F20 和F50快速有效地测量硅胶上SU-8 涂层单光斑和多点厚度.
2.硅晶圆薄膜
Filmetrics 提供台式系统, 测绘, 和生产测量 1nm 到 2mm 硅晶片和膜厚仪器系统。
